静态全息曝光技术是采用光敏材料记录两束相干光叠加产生的干涉条纹，形成折射率调制光栅，经显影后形成具有周期性浮雕结构的光栅掩模。静态全息曝光法是制作光栅母版的主要方法之一，对于低杂散光、消像差以及二维计量等光栅，大多数采用全息干涉曝光的方法制作。

机械刻划是通过金刚石刀具对镀制在基底上的金属膜层进行挤压，使其发生形变而形成阶梯状光栅槽形的等材制造过程。 制作刻划光栅的机器被称为光栅刻划机，光栅刻划机因其定位精度高被称为“精密机械之王”。 目前，国家光栅中心共有机械式、伺服控制式、数字控制式刻划机6台，具备制造紫外至红外波段、刻槽密度5gr/mm至8000gr/mm光栅的能力。其中，2016年依托国家重大科研装备研制项目，研制出综合技术水平达到国际领先的大型高精度衍射光栅刻划系统，该系统的定位精度PV<40nm、RMS值<3nm，刀具定向角变化范围0.5°-80°，环境温度控制精度<±0.02℃，隔振系统自振频率<1Hz、速度振幅<1.5μm/s。利用该刻划系统研制出了400mm×500mm世界最大面积中阶梯光栅。 近期，先后为“天问一号”火星表面成分探测仪研制了三种不同规格高精度光栅；为基金委国家重大仪器专项“光纤阵列太阳光学望远镜”（FASOT）研制了6块300mm×500mm中阶梯光栅。

高光谱成像仪将二维遥感成像技术和光谱探测技术有机结合，能够同时获取目标的空间图像信息及光谱信息，以图像形式直观地展示目标的物质组成及分布。

光电轴角编码器是一种通过光电转换将输出轴上的机械几何位移量转换成脉冲或数字量的传感器，是集光、机、电为一体的数字化角位移测量装置。

高精度光栅线位移传感器以栅距小于1m的光栅刻线作基准，可实现纳米级位移测量，是超精密测控仪器的核心器件。

光电轴角编码器是一种通过光电转换将输出轴上的机械几何位移量转换成脉冲或数字量的传感器，是集光、机、电为一体的数字化角位移测量装置。