衍射光栅
衍射光栅是一种周期性微结构或光学性能（如折射率）的超精密光学元件，具有色散、分束、偏振和相位匹配等特性。衍射光栅按照用途分为光谱光栅、位移测量光栅、同步辐射光栅、激光合束光栅和脉冲压缩光栅等。
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机械刻划技术
机械刻划是通过金刚石刀具对镀制在基底上的金属膜层进行挤压，使其发生形变而形成阶梯状光栅槽形的等材制造过程。制作刻划光栅的机器被称为光栅刻划机，光栅刻划机因其定位精度高被称为“精密机械之王”。
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静态全息曝光技术
静态全息曝光技术是采用光敏材料记录两束相干光叠加产生的干涉条纹，形成折射率调制光栅，经显影后形成具有周期性浮雕结构的光栅掩模。静态全息曝光法是制作光栅母版的主要方法之一。
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扫描干涉场曝光技术
扫描干涉场曝光技术是通过两束小尺寸高斯激光束在束腰处相叠加形成干涉条纹，二维精密工作台做步进-扫描运动，将干涉条纹扫描并拼接至光栅基底上制作出大面积光栅掩模的动态全息曝光技术。
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离子束与湿法刻蚀图形转移技术
刻蚀图形转移技术是在掩模图形的遮蔽保护下，通过离子束或溶液对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性移除或腐蚀，从而获得与掩模图形一致的光栅微纳结构的制造技术。
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